Материал высокого уровня Кремний Металл 2502

Метод материала и приготовления с металлическим силицидом,Силиконовый металл 2502наноструктура, которая включает наноструктуру силицида металла, изготовленную на подложке КНИ; Толщина изолирующего диэлектрического слоя этой подложки КНИ составляет 100-1000 нм, а толщина кремниевой пленки - 50-500 нм. Способ подготовки включает очистку, сушку, центрифугирование положительного фоторезиста, экспонирование, проявление и фиксацию, а затем изготовление структуры шаблона маски необходимой наноструктуры на поверхности тонкой кремниевой пленки подложки КНИ.

1.материал и способ получения с силицидом металла,Силиконовый металл 2502наноструктура, которая включает металлическую наноструктуру силицидов, изготовленную на подложке SOI; Толщина изоляционного диэлектрического слоя этого субстрата SOI составляет 100-1000 нм, а толщина кремниевой пленки составляет 50-500 нм. Метод подготовки включает в себя то, что субстрат SOI очищается, высушен, спин покрыт положительным фоторезистом, обнаженным, разработанным и фиксированным, а структура рисунка маски требуемой наноструктуры изготовлена ​​на поверхности тонкой пленки кремниевой пленки подложки SOI. Реактивное ионное травление используется для травления кремниевой пленки на субстрате SOI в требуемую наноструктуру, глубину травления - это толщина кремниевой пленки, а затем на изоляционном слое, содержащем наноструктуру кремния, металлическая пленка, необходимая для образования Металлический силицид осаждается, а затем металл и кремний реагируют в твердой фазе с помощью высокотемпературного отжига с образованием металлического силицида, а непрореагировавшего металла удаляется химической коррозией, то есть наноструктура металла силицид. Метод прост и может контролировать положение и масштаб наноструктуры.

горячая этикетка : Материал высокоуровневого материала кремниевый металл 2502, Китай высокий уровень материал кремниевый металл 2502 Производители, поставщики, фабрика